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[电路保护]多晶硅量子效应及其对MOSFET阈值电压的影响

中心议题: 通过电荷分布曲线近似的解析方法,计算了多晶硅量子效应对阈值电压的影响解决方案: 计算了在不同掺杂浓度下多晶硅量子效应所引起的MOSFET阈值电压的偏移随着微电子工业的发展,器件的特征尺寸已经发展到了纳米量级[1],并且将向着沟道长度为10 nm的方向发展。在这种器件中,为了抑制短沟道效应、DIBL效应,体硅通常采用高掺杂,此时由于器件的尺寸很小,量子效应对器件特性的影响已经不容忽视。自20世纪70年代以来,对量子效应的研究已得到广泛的关注,主要是通过数值模拟或解析近似的方法,对体硅从积累到反型时的量子